机译:氧分压对脉冲激光沉积Mn_(1.56)Co_(0.96)Ni_(0.48)O_(4)薄膜的结构和电性能的影响
机译:氧分压对脉冲激光沉积Eu3 +掺杂Y2O2S薄膜材料性能的影响
机译:H_2 / SiH_4比对常压等离子体化学气相沉积法沉积多晶硅膜的沉积速率和形貌的影响
机译:乙烯分压对通过化学气相沉积法在Si(111)上生长的3C-SiC薄膜结晶度的影响
机译:通过常压金属有机化学气相沉积法沉积的氮化铝薄膜的电,结构和光学性质。
机译:通过原子层沉积和化学气相沉积在高纵横比结构中沉积的薄膜的ToF-SIMS 3D分析
机译:氧分压对脉冲激光沉积纳米结构Gd掺杂氧化铈薄膜微观结构,光学和气敏特性的影响
机译:用于低成本太阳能电池应用的薄膜沉积的激光加热CVD(化学气相沉积)工艺:最终转包报告,1984年2月1日至1987年2月28日