机译:低压化学气相沉积的合成与优化-由SiHCl_3和NH_3沉积的氮化硅涂层
机译:SIHCL_3和NH_3沉积低压化学气相沉积 - 氮化硅涂层的合成与优化
机译:Si衬底上厚的低压化学气相沉积多晶SiC涂层中的残余应力
机译:使用低压化学气相沉积氧化物的氮化镓金属-绝缘体-半导体电容器
机译:研究硬质合金切削刀具刀片(硬质合金刀具,化学气相沉积)上化学气相沉积(CVD)金刚石涂层的附着力的机械和物理问题。
机译:He / H2 / CH4 / N2混合物的微波等离子体化学气相沉积法沉积超光滑纳米结构金刚石(USND)涂层的合成及机械磨损研究
机译:大卫·罗伯特·克拉克(David Robert Clark)将冷壁低压化学气相沉积氮化硅用作场效应晶体管的底栅电介质。
机译:使用电泳沉积的金刚石粉末涂料作为化学气相沉积金刚石的前体。