机译:用原子层化学气相沉积在Si衬底上制备的Al2O3和ZrO2发电膜的晶体谱和界面表征
机译:原子层沉积制备的HfO _2薄膜与使用NH _3蒸气进行后氮化的InP衬底之间的界面反应
机译:使用大气压微等离子体打印机通过化学气相沉积和原子层沉积制备的TiO_2薄膜图案
机译:大气压金属有机化学气相沉积法制备玻璃衬底上掺镓ZnO薄膜的表征
机译:通过化学气相沉积路线简单地在介电基板上合成大面积多层石墨烯膜(通过CVD路线在介电基板上合成MLG膜)
机译:氮化镍膜的原子层沉积和直接液化化学气相沉积及其转化为硅化镍膜。
机译:通过原子层沉积和化学气相沉积在高纵横比结构中沉积的薄膜的ToF-SIMS 3D分析
机译:用原子层化学气相沉积沉积超薄Si的HF硅酸盐膜和HF硅酸盐/ SiO2双层的物理和电气特性
机译:衬底对金属有机化学气相沉积制备的外延pbTiO(sub 3)薄膜的结构和光学性质的影响