机译:双光束激光干扰光刻中的对比分析
机译:利用双光束干涉和紫外纳米压印光刻技术形成抗反射膜的杂化聚合物纳米结构
机译:基于干涉光刻技术的多孔氧化铝膜的晶圆级镍压印印模
机译:具有极端紫外线干扰光刻的纳米透明剂,用于纳米电子和生物技术
机译:纳米压印光刻和发光器件应用的大面积纳米仪的研究进展
机译:有效合成能够进行晶圆级纳米图案化的高氧化石墨烯:预先形成的酸性氧化介质方法
机译:高分辨率纳米透明机构:近期纯粹和经济高效的自上而下的光刻的最新进展,用于≈10nm尺寸纳米图:从边缘光刻到次级溅射光刻(ADV。Mater。35/2020)