机译:基于甲基丙烯腈/ 2-三氟甲基丙烯酸酯共聚物的F_2抗蚀剂
机译:用于157 nm正性抗蚀剂的甲基丙烯腈基含硅聚合物
机译:用于VUV光刻的基于聚(#alpha#-甲基-对羟基苯乙烯-甲基丙烯酸丙烯腈)的单层光刻胶:(2)F_2受激准分子激光曝光特性
机译:在兼容4F 2 sup>的TaO
机译:嵌段共聚物在压缩二氧化碳中的相行为以及作为单畴层纳米光刻抗蚀剂的亚10纳米图案转移
机译:用聚(N-异丙基丙烯酰胺)-b-ssDNA共聚物刷制备电阻率的装置
机译:聚(.alpha.-甲基-P-羟基苯乙烯 - 共甲基丙烯腈)基于VUV光刻的单层抗蚀剂:(2)F2准分子激光曝光特性。
机译:聚(甲基丙烯腈)的电子束和X射线抗蚀行为。