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Enhanced Electrochemical Properties of Arrayed CNsub x Nanotubes Directly Grown on Ti-Buffered Silicon Substrates

机译:增强的阵列CN Sub X纳米管的电化学性能直接生长在Ti缓冲硅基板上

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摘要

[[abstract]]The effects of a Ti buffer layer on structural and electrochemical properties of arrayed nitrogen-containing carbon nanotubes (CNx NTs) directly grown on Si substrates have been investigated. Cyclic voltammograms using Fe(CN)(6)(3-)/Fe(CN)(6)(4-) as redox couple were measured to study the electrochemical activities of CNx NTs. The highest peak current density was achieved at an optimal Ti thickness of 20 nm owing to the good conductivity of TiSi2 and high number density of NTs. Therefore, we have demonstrated the direct growth of aligned NTs on Ti- buffered Si with improved electrochemical activity that is believed to be suitable for advanced microsystem applications. (c) 2006 The Electrochemical Society.
机译:[[摘要]]研究了Ti缓冲层对在Si衬底上直接生长的排列氮的含氮碳纳米管(CNX NTS)的结构和电化学性质的影响。测量使用Fe(CN)(6)(3)(3 - )/ Fe(3)(4-)(6)(4-)的循环伏安图测量作为氧化还原耦合,以研究CNX NT的电化学活性。由于TISI2的良好导电性和NTS的高分密度,以20nm的最佳Ti厚度实现最高峰值电流密度。因此,我们已经证明了在Ti缓冲的Si上的直接生长,具有改进的电化学活性,被认为适用于先进的微系统应用。 (c)2006年电化学协会。

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