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Evidence for low-energy ions influencing plasma-assisted atomic layer deposition of SiO2: Impact on the growth per cycle and wet etch rate

机译：影响SiO2等离子体辅助原子层沉积的低能量离子的证据：对每个循环和湿蚀刻速率的生长影响

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K. Arts; J. H. Deijkers; T. Faraz; R. L. Puurunen; W. M. M. (Erwin) Kessels; H. C. M. Knoops;
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年度 2020
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