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机译:<标题>极端紫外线光刻:反射掩模技术 title>
Christopher C. Walton; Patrick A. Kearney; Paul B. Mirkarimi; Joel M. Bowers; Charles J. Cerjan; Abbie L. Warrick; Karl C. Wilhelmsen; Eric R. Fought; Craig E. Moore; Cindy C. Larson; Sherry L. Baker; Scott C. Burkhart; Scott D. Hector;
机译:用于极紫外光刻的反射型衰减相移掩模的高反射率,在深紫外条件下具有较高的检查对比度
机译:极端紫外线平版印刷中反光板上划痕缺陷的可印刷性分析
机译:极紫外光刻中偏轴入射光在反光罩上的印刷图像不对称性分析
机译:极紫外光刻(EUVL)掩模中改善反射率均匀性的工艺
机译:用于极端紫外光刻的反射罩。
机译:迈向极紫外光刻的高精度反射计
机译:极端紫外线光刻的多层反射涂层
机译:用于极紫外光刻的反射装置,应用于其的极紫外光刻掩模,投影光学系统和光刻设备
机译:极紫外线照射掩模,用于极紫外线照射的掩膜空白,制造极紫外线照射面具和光刻方法
机译:极紫外掩膜毛坯,使用极紫外掩膜毛坯,光刻技术,使用光掩膜制造的方法,以及使用光电掩膜的半导体器件的制造方法
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