机译：第42届有机合成研讨会（2010年）-化学技术的变化时代-标题研讨会分别于2010年10月27日（星期三）和28日（星期四）举行，为期两天（德国）大阪市工业研究所它在大型礼堂举行，有43人参加。在本次研讨会中，支持有机合成，氧化反应，光学活性物质生产，药物工艺开发，工艺化学的当前和未来前景，分子电子，液晶有机半导体，有机n型半导体，染料的有机分子催化剂的工业化专注于敏化太阳能电池的开发，自组织空间中的未来化学等方面，在该领域的前线发挥积极作用的三名大学教授，四家公司和产业研究。我们由Tokoro等政府部门的三人讲课。参加者对聆听和
机译：[SUS304ULC / Ta / Zr爆炸桥接头的氢脆研究系列]“ Ta / Zr接头界面的氢脆开裂特征和Zr母材的氢脆机理”“ Ta / Zr接头界面的氢脆”各种影响结晶的因素“” Ta / Z在水下抛光过程中“界面处的氢脆破裂现象和氢脆化机理”“ Ta / Zr界面处氢扩散和氢化物沉淀的计算机模拟”“ Ta防止Zr / Zr键合界面氢脆的施工准则的建议”
机译：具有三维堆叠结构的半导体器件的保形成膜技术研究：第一份报告：关于通过旋转雾化气溶胶喷雾进行TSV成膜的方法及其装置化的建议
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