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M3: Microscope-based maskless micropatterning with dry film photoresist

机译：M3：基于显微镜的无掩模微图案，具有干膜光刻胶

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Steven Y. Leigh; Aashay Tattu; Joseph S. B. Mitchell; Emilia Entcheva;
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年度 2010
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1. M~3: Microscope-based maskless micropatterning with dry film photoresist [J] . Steven Y. Leigh, Aashay Tattu, Joseph S. B. Mitchell, Biomedical Microdevices . 2011,第2期

机译：M〜3：使用干膜光刻胶的基于显微镜的无掩模微图案化
2. Dry Film Photoresist Application to a Printed Circuit Board (Pcb) using a Maskless Photolithography Method [J] . Dedi Suwandi, Rofan Aziz, Agus Sifa, International Journal of Technology . 2019,第5期

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3. Ultrafast pump-probe microscopy reveals the mechanism of selective fs laser structuring of transparent thin films for maskless micropatterning [J] . Stephan Rapp, Janosch Rosenberger, Matthias Domke, Applied Surface Science . 2014,第jana30期

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4. Fabrication of photoresist-based polymer resonator antennas using ultra-thick SU-8 based dry films [C] . A. Rashidian, M. T. Aligodarz, D. M. Klymyshyn, IEEE International Symposium on Antennas and Propagation . 2013

机译：基于光致抗蚀剂的聚合物共振器天线使用超厚SU-8干膜制造
5. Print-to-Pattern Dry Film Photoresist Lithography [D] . Garland, Shaun Patrick. 2014

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机译：M3：基于显微镜的无掩模微图案具有干膜光刻胶
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