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机译:用旋涂法对YBCO薄膜制备进行两步退火的有效性
Shigetoshi OHSHIMA; Tomoyuki MATSUMOTO; Atsushi SAITOH; Masashi MUKAIDA;
机译:旋涂热解退火法制备Cu2ZnSnS4薄膜
机译:热解-退火旋涂法制备Cu_2ZnSnS_4薄膜
机译:异位YBCO / Ag薄膜界面的氧退火
机译:YBCO /金薄膜接触件的氧退火
机译:原位热退火工艺对脉冲激光沉积制造CDS Cdte薄膜太阳能电池结构,光学和电性能的影响
机译:一步和两步退火方法在高温下制备的自扩散Sn扩散Fe2O3阳极的光电化学阻抗和光学数据
机译:氧气退火的前所YBCO / AG薄膜界面
机译:用于退火的薄膜半导体结构,用于薄膜半导体的退火方法,薄膜半导体器件,薄膜半导体器件的制造方法以及显示
机译:快速热退火法制备透明导电薄膜的方法及用该方法制备的透明导电薄膜
机译:薄膜半导体器件,退火方法,其制造方法,以及用于退火的显示装置和薄膜半导体结构体
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