机译:基于极紫外辐射下聚合物脱保护的化学放大抗蚀剂中产生的化学梯度的理论研究
机译:添加光酸产生剂的聚苯乙烯基聚合物的脉冲辐射分解研究:极紫外光和电子束化学放大抗蚀剂的反应机理
机译:基于聚合物脱卤的单组分化学增强抗蚀剂
机译:聚合物结构对化学扩增193纳米抗蚀剂溶出特性的影响
机译:探索基于溶出抑制剂的非化学放大抗蚀剂,用于193 nm光刻。
机译:通过使用非化学放大的抗蚀剂和曝光后烘烤来制造具有改善的线边缘粗糙度的高分辨率掩模
机译:基于脂环族丙烯酸酯聚合物的化学扩增的负性抗蚀剂,用于193-nm光刻。
机译:抗蚀剂材料设计:碱催化化学扩增。