A Novel Alicyclic Polymers for 193nm Single Layer Resist Materials.

机译：一种用于193nm的单层抗蚀剂材料的新型脂环族聚合物。

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Jae-Chang Jung; Min-Ho Jung; Ki-Ho Baik;
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年度 1998
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1. A New 193nm Single Layer Resist Based on Cycloolefin Maleic Anhydride Polymers [J] . Si-Hyeung Lee, Ki-Young Kwon, Dong-Won Jung, Journal of Photopolymer Science and Technology . 2000,第4期

机译：基于环烯烃马来酸酐聚合物的新型193nm单层抗蚀剂
2. Single-layer resist design for 193nm lithography [J] . Om Nalamasu, Francis M. Houlihan, Raymond A. Cirelli, Solid State Technology . 1999,第5期

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3. 2D chain layer versus 1D chain: rigid aromatic benzoate disassembling flexible alicyclic dicarboxylate-based lanthanide coordination polymers with enhanced photoluminescence and characteristic single-molecule magnet behavior [J] . Wang Jia-Yin, Shi Yang, Tao Dong-Liang, CrystEngComm . 2020,第26期

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4. 193nm Single Layer Resist Materials: Total Consideration on Design, Physical Properties, and Lithographic Performances on All Major Alicyclic Platform Chemistries [C] . T. Kajita, Y. Nishimura, M. Yamamoto, Advances in Resist Technology and Processing XVIII . 2001

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