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【2h】

Improvement of Post-Exposure Delay Stability in Alicyclic ArF Excimer Photoresists

机译：脂环ARF准分子光致抗蚀剂曝光后延迟稳定性的提高

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Mikio Yamachika; Kyle Patterson; Sungseo Cho; Timo Rager; Shintaro Yamada; Jeffrey Byers; P. J. Paniez; B. Mortini; S. Gally; P-O. Sassoulas; C. Grant Willson;
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年度 1999
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