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【2h】

Surface Modification Resists Using Photoacid and Photobase Generating Polymers.

机译：表面改性使用光酸和光碱产生聚合物抵抗。

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Masamitsu Shirai; Hideki Nakaseko; Masahiro Tsunooka;
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年度 2000
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1. Surface Modification Resists Using Photoacid and Photobase Generating Polymers [J] . Masamitsu Shirai, Hideki Nakaseko, Masahiro Tsunooka Journal of Photopolymer Science and Technology . 2000,第4期

机译：使用光酸和光碱生成聚合物抵抗表面改性
2. Surface Modification Resists Using Photoacid and Photobase Generating Polymers [J] . Masamitsu Shirai, Hideki Nakaseko, Masahiro Tsunooka Journal of Photopolymer Science and Technology . 2000,第4期

机译：使用光酸和光碱生成聚合物抵抗表面改性
3. Photoacid- and Photobase-Generating Monomers for Surface Modification of Cured Resin : Application to Novel Resin Mold for UV Imprint [J] . Shunya Horii, Keisuke Yamane, Haruyuki Okamura Journal of Photopolymer Science and Technology . 2012,第6期

机译：用于光固化树脂表面改性的光酸和光碱生成单体：在新型UV压印树脂模具中的应用
4. Photoacid Generating Polymers for surface Modification Resists [C] . Masamitsu Shirai, Mitsuho Masuda, Masahiro Tsunooka, ACS national meeting . 1998

机译：用于表面改性的可产生光酸的聚合物
5. Part I: Sensitivity enhancement of PMMA resist by radiation-induced modification. Part II: Synthesis and characterization of poly(enaminonitriles) - high-temperature polymers. [D] . Kim, Sang Youl. 1989

机译：第一部分：通过辐射诱导的改性增强PMMA抗蚀剂的敏感性。第二部分：聚（烯氨基腈）-高温聚合物的合成与表征。
6. Resistive Memory for Harsh Electronics: Immunity to Surface Effect and High Corrosion Resistance via Surface Modification [O] . Teng-Han Huang, Po-Kang Yang, Der-Hsien Lien, -1

机译：苛刻电子产品的电阻式存储器：抗表面效应和通过表面改性获得的高耐腐蚀性
7. Photoacid- and Photobase-Generating Monomers for Surface Modification of Cured Resin: Application to Novel Resin Mold for UV Imprint [O] . Shunya Horii, Keisuke Yamane, Haruyuki Okamura, 2012

机译：用于表面改性的光偶联和光碱基产生单体，用于固化树脂的表面改性：用于UV印记的新型树脂模具
8. Organic Main-Chain NLO-Polymers. Comb-Like NLO Polymers Based on Alkyl and BenzylGroups as Side-Chains. Surface Modification of NLO Polymers. (Reannouncement with New Availability Information) [R] . Wright, M. E., Mullick, S. 1993

机译：有机主链NLO-聚合物。基于烷基和苄基作为侧链的梳状NLO聚合物。 NLO聚合物的表面改性。（重新公布新的可用性信息）

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