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【2h】

Design of Novel ArF Negative Resist System for Phase-Shifting Lithography Using Androsterone Structure with .DELTA.-Hydroxy Acid.

机译：用雄甾酮结构与羟基酮结构相移光刻的新型ARF负抗蚀剂系统。 - 羟基酸。

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Yoshiyuki Yokoyama; Takashi Hattori; Kaori Kimura; Toshihiko Tanaka; Hiroshi Shiraishi;
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年度 2000
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