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机译:EUV光刻CA抗蚀剂的特性。
Kazuhiro Hamamoto; Takeo Watanabe; Hideo Hada; Hiroshi Komano; Hiroo Kinoshita;
机译:高速原子力显微镜抵抗EUV的溶出特性
机译:基于C(4)F(6)-和C(4)F(8)的双频叠加电容耦合等离子体中ArF和EUV的蚀刻特性
机译:新型苯基碱4间苯二酚:EB和EUV光刻的应用顶态分子抗蚀剂。
机译:由温度和浓度梯度驱动的吉布斯偏析合金:EUV光刻中潜在的掠射收集器光学器件。
机译:高敏感性抗蚀性对EUV光刻进行抗衡性:材料设计策略和绩效结果综述
机译:157nm光刻含氟聚合物抗蚀剂特性研究。
机译:用于EUV光刻的锡蒸气EUV LLP源系统。
机译:SN VAPOR EUV LLP源系统,用于EUV光刻。
机译:EUV的抗蚀剂成分,EUV的抗蚀剂成分的制造方法以及抗蚀剂图案的形成方法
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