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Novel Low Reflective Index Fluoropolymers based Top Anti-reflective Coatings (TARC) for 193-nm Lithography

机译：新型低反光指数含氟聚合物的顶部抗反射涂层（TARC）为193-nm光刻

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Tsuneo Yamashita; Takashi Hayami; Takuji Ishikawa; Takashi Kanemaru; Hirokazu Aoyama;
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年度 2007
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