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A Novel Mechanism to Afford Photosensitivity to Unfunctionalized Polyimides: Negative-tone Reaction Development Patterning

机译：一种新的机制，可以提供对非官能化聚酰亚胺的光敏性：负性反应开发图案

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Toshiyuki Oyama; Shintaro Sugawara; Yuji Shimizu; Xu Cheng; Masao Tomoi; Akio Takahashi;
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年度 2009
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1. A Novel Mechanism to Afford Photosensitivity to Unfunctionalized Polyimides: Negative-tone Reaction Development Patterning [J] . Toshiyuki Oyama, Shintaro Sugawara, Yuji Shimizu Journal of Photopolymer Science and Technology . 2009,第5期

机译：减轻对未官能化聚酰亚胺的光敏性的新机制：负面反应发展格局。
2. Effect of Maleimide Compounds on Pattern-forming Property of Photosensitive Polyimide Based on Negative-tone Reaction Development Patterning [J] . Toshiyuki Oyama, Yuji Shimizu, Akio Takahashi Journal of Photopolymer Science and Technology . 2010,第1期

机译：基于负性反应显影图案的马来酰亚胺化合物对光敏聚酰亚胺图案形成性能的影响
3. Effect of Maleimide Compounds on Pattern-forming Property of Photosensitive Polyimide Based on Negative-tone Reaction Development Patterning [J] . Toshiyuki Oyama, Yuji Shimizu, Akio Takahashi Journal of Photopolymer Science and Technology . 2010,第1期

机译：基于负性反应显影图案的马来酰亚胺化合物对光敏聚酰亚胺图案形成性能的影响
4. Photosensitive polyimides without side chain: negative-tone reaction development patterning [C] . Toshiyuki Oyama Radtech International UV and EB Curing Technology Exposition and Conference . 2011

机译：没有侧链的光敏聚酰亚胺：负色调反应开发图案
5. Vapor deposition and patterning of auto-photosensitive polyimide. [D] . Chaplin, Stefanie Michelle. 2003

机译：自动光敏聚酰亚胺的气相沉积和图案化。
6. Mechanism of photosensitivity reactions to diseased celery. [O] . M J Ashwood-Smith, O Ceska, S K Chaudhary 1985

机译：对患病芹菜的光敏反应机理。
7. Effect of Maleimide Compounds on Pattern-forming Property of Photosensitive Polyimide Based on Negative-tone Reaction Development Patterning [O] . Toshiyuki Oyama, Yuji Shimizu, Akio Takahashi 2010

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