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Development of Materials and Processes for Non-top Coat Immersion Lithography

机译：非顶涂层浸入光刻的材料和工艺的开发

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Katsutoshi Kobayashi; Kotaro Sho; Hirokazu Kato; Kazunori Iida; Yoko Iwakaji; Tomoya Ori; Daizo Muto; Tsukasa Azuma; Shinichi Ito;
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年度 2009
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1. Development of Materials and Processes for Non-top Coat Immersion Lithography [J] . Katsutoshi Kobayashi, Kotaro Sho, Hirokazu Kato Journal of Photopolymer Science and Technology . 2009,第5期

机译：非顶涂层浸没光刻技术的材料和工艺的发展
2. Development of Materials and Processes for Double Patterning toward 32 nm Node ArF Immersion Lithography [J] . Shinji Tarutani, Hideaki Tsubaki, Shinichi Kanna Journal of Photopolymer Science and Technology . 2008,第5期

机译：面向32 nm节点ArF浸没光刻的双图案化材料和工艺的开发
3. Novel Top-coat Materials Containing a Bulky Silicon Group for ArF Immersion Lithography [J] . Mitsuhiro Hata, Man-Hyoung Ryoo, Sang-Jun Choi Journal of Photopolymer Science and Technology . 2006,第5期

机译：用于ArF浸没光刻的包含大体积硅基团的新型面漆材料
4. Development of top coat materials for ArF immersion lithography [C] . Yoko Takebe, Naoko Shirota, Takashi Sasaki, Conference on Advances in Resist Technology and Processing . 2007

机译：开发ARF浸入光刻的顶层材料
5. Materials and Processes for Advanced Lithography Applications. [D] . Jen, Wei-Lun Kane. 2009

机译：高级光刻应用的材料和工艺。
6. Erratum: Chen Z. and Etsion I. Recent Development in Modeling of Coated Spherical Contact. Materials 2020 13 460 [O] . Zhou Chen, Izhak Etsion 2020

机译：错误：陈Z.和etsionI。最近的涂层球形接触建模的发展。材料202013460
7. Development of Materials and Processes for Double Patterning toward 32nm Node ArF Immersion Lithography [O] . Shinji Tarutani, Hideaki Tsubaki, Shinichi Kanna 2008

机译：用于双图案化朝向32nm节点ARF浸入光刻的材料和工艺的开发

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