首页> 外文OA文献 >20nm Pitch Directed Block Copolymer Assembly Using Solvent Annealing for Bit Patterned Media

【2h】

20nm Pitch Directed Block Copolymer Assembly Using Solvent Annealing for Bit Patterned Media

机译：使用溶剂退火的20nm间距嵌段共聚物组件进行比特图案化介质

代理获取

本网站仅为用户提供外文OA文献查询和代理获取服务，本网站没有原文。下单后我们将采用程序或人工为您竭诚获取高质量的原文，但由于OA文献来源多样且变更频繁，仍可能出现获取不到、文献不完整或与标题不符等情况，如果获取不到我们将提供退款服务。请知悉。

页面导航

著录项
相似文献
相关主题

著录项

作者
Joan K. Bosworth; Elizabeth Dobisz; Ricardo Ruiz;
展开▼
作者单位

展开▼
年度 2010
总页数
原文格式 PDF
正文语种
中图分类

相似文献

外文文献
中文文献
专利

1. 20 nm Pitch Directed Block Copolymer Assembly Using Solvent Annealing for Bit Patterned Media [J] . Joan K. Bosworth, Elizabeth Dobisz, Ricardo Ruiz Journal of Photopolymer Science and Technology . 2010,第2期

机译：使用溶剂退火的20 nm间距定向嵌段共聚物组件，用于位图介质
2. 20 nm Pitch Directed Block Copolymer Assembly Using Solvent Annealing for Bit Patterned Media [J] . Joan K. Bosworth, Elizabeth Dobisz, Ricardo Ruiz Journal of Photopolymer Science and Technology . 2010,第2期

机译：使用溶剂退火的20 nm间距定向嵌段共聚物组件，用于位图介质
3. Directed Self-Assembly of Triblock Copolymer on Chemical Patterns for Sub-10-nm Nanofabrication via Solvent Annealing [J] . Xiong Shisheng, Wan Lei, Ishida Yoshihito, ACS nano . 2016,第8期

机译：通过溶剂退火在低于10nm纳米制造的化学图案上指导三嵌段共聚物的自组装
4. Self-Aligned, Self-Assembled Organosilicate Line Patterns of ～20nm Half-Pitch from Block Copolymer Mediated Self-Assembly [C] . Ho-Cheol Kim, Joy Cheng, Charles Rettner, Conference on Advances in Resist Technology and Processing . 2007

机译：自对准，自组装有机硅酸盐线图案〜20nm的半场间距从嵌段共聚物介导的自组装
5. Directed self-assembly of block copolymers and ternary block copolymer/homopolymer blends on chemically patterned surfaces into device-oriented geometries. [D] . Stoykovich, Mark P. 2007

机译：嵌段共聚物和三元嵌段共聚物/均聚物共混物在化学图案化表面上的定向自组装成面向装置的几何形状。
6. Numerical Simulations of Directed Self-Assembly in Diblock Copolymer Films using Zone Annealing and Pattern Templating [O] . Joseph D. Hill, Paul C. Millett -1

机译：区域退火和图案模板法在二嵌段共聚物薄膜中定向自组装的数值模拟
7. Directed Self-Assembly of Triblock Copolymer on Chemical Patterns for Sub-10-nm Nanofabrication via Solvent Annealing [O] . -1

机译：通过溶剂退火的亚10 -NM纳米制剂的化学模式的三嵌段共聚物的定向自组装

20nm Pitch Directed Block Copolymer Assembly Using Solvent Annealing for Bit Patterned Media

著录项

相似文献

相关主题

期刊订阅