Novel photoacid generators: Key components for the progress of chemically amplified photoresist systems.

机译：聚合物基体和光酸产生剂对化学增幅光刻胶平版印刷性能的影响

机译：一种简单的方法，用于测量配制的化学放大光致抗蚀剂膜中的光致产酸剂光反应动力学

机译：用于化学增幅光刻胶的非离子型光致产酸剂的评估

机译：新型聚合polymeric光酸产生剂及其在化学放大光刻胶中的应用

机译：使用pH敏感的荧光成像表征化学放大的光刻胶中光酸的生成。

机译：通过非化学放大光刻胶的EUV定向极性切换对复杂纳米特征的高度有序阵列进行构图

机译：模型的反应扩散前面的测量化学扩增的光致抗蚀剂具有不同的光酸尺寸

机译：使用包括光酸产生剂和热酸产生剂的化学放大的光致抗蚀剂化合物形成半导体器件的精细图案的方法

机译：化学增强的光致抗蚀剂化合物，包括光酸发生剂和热酸发生剂，以及使用该化合物形成半导体装置精细图形的方法

机译：多功能光酸发生器和化学放大的厚层的光致抗蚀剂组合物，包括相同的厚层