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【2h】

Chemically Amplified Resists. V Photochemical Proton Generation Mechanism from Triphenylsulfonium Salts.

机译：化学放大抗蚀剂。 v三苯基锍盐的Photochemical质子发电机制。

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作者
Setsuko Oikawa; Norikazu Fujii; Masayuki Hata; Minoru Tsuda;
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年度 1994
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