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机译:荫罩磁化对电子束轨迹的影响的模拟。
H. Nasuno; A. Haga; T. Kanbayashi; K. Yamane;
机译:PMMA中质子束产生的二次电子能量沉积的模拟:目标电子激发描述的影响
机译:电子束光刻模拟极端紫外掩模的图形
机译:静电卡盘边缘场模拟及其对电子束极紫外掩模构图的影响
机译:彩色显像管阴影面罩的磁场分布及其对电子束弹道的影响
机译:荫罩选择性区域分子束外延技术,用于器件处理和集成。
机译:形状和表面氧化对聚焦电子束诱导沉积生长的细铁纳米线磁化反转的影响
机译:阴影掩模的磁场分布具有围绕框架周边的磁路及其对电子束轨迹的影响。
机译:带有垂直荧光粉条的荫罩彩色CRT-荫罩的位置设置成允许通过的电子束激发三个相邻的荧光粉元件
机译:带有荫罩的彩色CRT显像管-深色荫罩和铁磁屏管引导电子束
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