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Epitaxial Growth of MnSb Films Fabricated by Planar Sputtering: Effect of Substrate Temperature and Bias on Epitaxial Growth.

机译：由平面溅射制造的MNSB膜的外延生长：底物温度和偏差对外延生长的影响。

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S. Saito; Y. Ashizawa; H. Shoji; M. Takahashi; T. Miyazaki;
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年度 2000
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1. Epitaxial Growth of MnSb Films Fabricated by Planar Sputtering: Effect of Substrate Temperature and Bias on Epitaxial Growth [J] . S.Saito, Y.Ashizawa 日本応用磁気学会誌 . 2000,第4a2期

机译：平面溅射制备的MnSb薄膜的外延生长：衬底温度和偏压对外延生长的影响
2. Epitaxial Growth of MnSb Films Fabricated by Planar Sputtering: Effect of Substrate Temperature and Bias on Epitaxial Growth [J] . S.Saito, Y.Ashizawa 日本応用磁気学会誌 . 2000,第4a2期

机译：由平面溅射制造的MNSB膜的外延生长：底物温度和偏差对外延生长的影响
3. Eptiaxial growth of MnSb sputtered films: influence of charged particles of epitaxial growth [J] . H.Oguma, H.Kudo 日本応用磁気学会誌 . 1999,第4a2期

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4. Epitaxial Growth of SrTiO{sub}3 Thin Films on TiN/Si Substrates using RF Sputtering [C] . Chun Wang, Mark H. Kryder Materials Research Society Symposium on Ferroelectrics and Multiferroics . 2006

机译：使用RF溅射在锡/ Si基材上的SRTIO {Sub} 3薄膜的外延生长
5. Chromium nitride and chromium aluminum nitride epitaxial films for growth of alpha-alumina by AC reactive magnetron sputtering. [D] . Pulugurtha, Syamala Rani. 2007

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7. Epitaxial Growth of MnSb Sputtered Films: Influence of Charged Particles of Epitaxial Growth. [O] . H. Oguma, H. Kudo, S. Saito, 1999

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Epitaxial Growth of MnSb Films Fabricated by Planar Sputtering: Effect of Substrate Temperature and Bias on Epitaxial Growth.

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