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机译:极端紫外线光刻的多层反射涂层
Claude Montcalm; Sasa Bajt; Paul B. Mirkarimi; Eberhard A. Spiller; Frank J. Weber; James A. Folta;
机译:用于离子束沉积的极紫外光刻的高性能Mo-Si多层涂层
机译:/ Si多层涂层对极紫外光刻系统成像特性的影响
机译:Mo / Si多层涂层对极紫外光刻系统成像特性的影响
机译:用于极紫外光刻的多层反射涂层
机译:强烈的毛细管放电等离子体极紫外光源,用于极紫外光刻和其他极紫外成像应用。
机译:通过全晶圆和卷对卷分步闪光纳米压印光刻技术生产的塑料基板单层宽带抗反射涂层
机译:新型低反光指数含氟聚合物的顶部抗反射涂层(TARC)为193-nm光刻
机译:钝化外涂层双层,用于多层反射涂层,用于极端紫外光刻
机译:用于极端紫外光刻的多层反射涂层的钝化外涂层双层
机译:用于极紫外光刻的多层反射涂层的钝化覆膜双层
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