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The effect of ramp rate and annealing temperature on boron transient diffusion in implanted silicon: kinetic Monte Carlo simulations

机译：坡度和退火温度对植入硅硼瞬态扩散的影响：动力学蒙特卡罗模拟

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M.J. Caturla; M. Foad; T. Daiz de la Rubia;
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