首页> 外文OA文献 >High Average Power Pulsed CO2 Laser for Short Wavelength Light Sources

【2h】

High Average Power Pulsed CO2 Laser for Short Wavelength Light Sources

机译：用于短波长光源的高平均功率脉冲CO2激光器

代理获取

本网站仅为用户提供外文OA文献查询和代理获取服务，本网站没有原文。下单后我们将采用程序或人工为您竭诚获取高质量的原文，但由于OA文献来源多样且变更频繁，仍可能出现获取不到、文献不完整或与标题不符等情况，如果获取不到我们将提供退款服务。请知悉。

页面导航

著录项
引文网络
相似文献
相关主题

著录项

作者
Akira Endo;
展开▼
作者单位

展开▼
年度 2012
总页数
原文格式 PDF
正文语种
中图分类

相似文献

外文文献
中文文献
专利

1. Scaling of high average power, short-pulse CO2 lasers [J] . Akira Endo Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS . 2012,第2期

机译：高平均功率，短脉冲CO2激光器的缩放
2. A Connected Array of Coherent Photoconductive Pulsed Sources to Generate mW Average Power in the Submillimeter Wavelength Band [J] . Garufo Alessandro, Sberna Paolo Maria, Carluccio Giorgio, Terahertz Science and Technology, IEEE Transactions on . 2019,第3期

机译：相干光导脉冲源的连接阵列，可在亚毫米波波段产生mW平均功率
3. Progress of high average power, short-pulse laser technology for the Compton X-ray source [J] . Akira Endo, Kazuyuki Sakaue, Masakazu Washio Nuclear Instruments & Methods in Physics Research . 2011,第Suppla1期

机译：康普顿X射线源高平均功率，短脉冲激光技术的进展
4. High power and short pulse RF-excited CO2 laser MOPA system for LLP EUV light source [C] . Tatsuya Ariga, Hideo Hoshino, Taisuke Miura, Conference on Laser Beam Control and Applications . 2006

机译：用于LLP EUV光源的大功率和短脉冲RF激光CO2激光MOPA系统
5. Bond Strength of Etch-and-Rinse and Self-etch Adhesive Systems to Enamel and Dentin Irradiated with a Novel CO2 9.3 µm Short-pulsed Laser for Dental Restorative Procedures [D] . Bartolome, Nicole Ong 2017

机译：新型9.3 µm CO2短脉冲激光辐照牙釉质和牙本质对牙釉质和牙本质的腐蚀和冲洗和自蚀胶黏剂系统的粘结强度
6. Scaling the productivity of laser structuring processes using picosecond laser pulses at average powers of up to 420 W to produce superhydrophobic surfaces on stainless steel AISI 316L [O] . Sebastian Faas, Uwe Bielke, Rudolf Weber, -1

机译：使用皮秒激光脉冲以高达420 ofW的平均功率扩展激光构造过程的生产率从而在AISI 316L不锈钢上产生超疏水表面
7. Very short far-infrared pulses from optically pumped CH3OH/d, CH3F, and HCOOH lasers using an eq-switched CO2 laser as a pump source [O] . Bluyssen H.J.A., Etteger A.F. van, Maan J.C., 1980

机译：来自光泵浦的CH3OH / d，CH3F和HCOOH激光器的非常短的远红外脉冲，它使用等位转换CO2激光器作为泵浦源
8. Towards shorter wavelength x-ray lasers using a high power, short pulse pump laser. [R] . W. Tighe K. Krushelnick E. Valeo S. Suckewer 1991

机译：使用高功率短脉冲泵浦激光器朝向更短波长的X射线激光器。

High Average Power Pulsed CO2 Laser for Short Wavelength Light Sources

著录项

引文网络

相似文献

相关主题

期刊订阅