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Rigorous Quantitative SEM/EDS Microanalysis Requires Careful Inspection of the Peak-Fitting Residual Spectrum to Reveal Hidden Constituents

机译：严格的定量SEM / EDS微显分需要仔细检查拟合峰值残留谱，以显示隐藏的成分

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Dale E. Newbury; Nicholas W. M. Ritchie;
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年度 2016
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1. Quantitative Electron-Excited X-Ray Microanalysis of Borides, Carbides, Nitrides, Oxides, and Fluorides with Scanning Electron Microscopy/Silicon Drift Detector Energy-Dispersive Spectrometry (SEM/SDD-EDS) and NIST DTSA-II [J] . Newbury Dale E., Ritchie Nicholas W. M. Microscopy and microanalysis: The official journal of Microscopy Society of America, Microbeam Analysis Society, Microscopical Society of Canada . 2015,第5期

机译：扫描电子显微镜/硅漂移检测器能量色散光谱（SEM / SDD-EDS）和NIST DTSA-II对硼化物，碳化物，氮化物，氧化物和氟化物的电子激发X射线定量分析
2. Rigorous Quantitative Elemental Microanalysis by Scanning Electron Microscopy/Energy Dispersive X-ray Spectrometry (SEM/EDS) with Spectrum Processing by NIST DTSA-Ⅱ [C] . Dale E. Newbury, Nicholas W. M. Ritchie Conference on scanning microscopies . 2014

机译：使用NISTDTSA-Ⅱ进行光谱处理的扫描电子显微镜/能量色散X射线光谱法（SEM / EDS）进行严格的定量元素微分析

Rigorous Quantitative SEM/EDS Microanalysis Requires Careful Inspection of the Peak-Fitting Residual Spectrum to Reveal Hidden Constituents

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