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机译:在RF磁控溅射的各种功率下对氮化硅薄膜特性的影响
M K Mustafa; U Majeed; Y Iqbal;
机译:射频磁控溅射沉积非晶态富硅氮化硅薄膜的机械和电性能
机译:射频功率对射频磁控溅射沉积纳米结构氮化碳薄膜电学和力学性能的影响
机译:射频射频磁控溅射氮气制氮化硅薄膜的电导率和介电性能
机译:反应性RF磁控溅射沉积的石英基板上氮化铝薄膜的结构和压电性能
机译:射频反应磁控溅射在低温下沉积在硅上的压电氮化铝薄膜的声波器件特性
机译:AlN中间层对大功率脉冲磁控溅射SiC薄膜结构和化学性能的影响
机译:RF磁控溅射制备的氧氧化硅薄膜性能研究
机译:射频支撑的磁控管对氮化硅膜的反应溅射
机译:磁控溅射装置,用于使用该装置的无机薄膜材料的磁通量配置(平衡型/非平衡型)可切换成膜方法,以及用于非磁性薄膜的双型磁控溅射装置和成膜方法成型B
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