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【2h】

Multi-scale structure patterning by digital-mask projective lithography with an alterable projective scaling system

机译：多尺度结构通过数字掩模投射光刻进行图案，可改变投影缩放系统

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Yu-Huan Liu; Yuan-Yuan Zhao; Xian-Zi Dong; Mei-Ling Zheng; Feng Jin; Jie Liu; Xuan-Ming Duan; Zhen-Sheng Zhao;
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年度 2018
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1. Multi-scale structure patterning by digital-mask projective lithography with an alterable projective scaling system [J] . Yu-Huan Liu, Yuan-Yuan Zhao, Xian-Zi Dong, AIP Advances . 2018,第6期

机译：多尺度结构通过数字掩模投射光刻进行图案，可改变投影缩放系统
2. First results of high-resolution patterning by the ENEA laboratory-scale extreme ultraviolet projection lithography system [J] . Bollanti S, Di Lazzaro P, Flora F, EPL . 2008,第5期

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3. Flexible calibration of structured-light systems projecting point patterns [J] . Achraf Ben-Hamadou, Charles Soussen, Christian Daul, Computer vision and image understanding . 2013,第10期

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4. Multi-Scale Grafted Polymeric Nanostructures Patterned Bottom-Up by Colloidal Lithography and Initiated Chemical Vapor Deposition (iCVD) [C] . Nathan J. Trujillo, Salmaan H. Baxamusa, Karen K. Gleason Symposium BB on Polymer - Based Smart Materials - Processes, Properties and Application . 2009

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7. Multi-scale patterns of spatial variability in sessile assemblage structure do not alter predictably with development time [O] . Smale DA 2013

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8. Roll-to-Roll, Projection Lithography System for High-Resolution Patterning of Flexible Substrates, Volume 1 [R] . Jain, K. , Dunn, T. J. , Farmiga, N. , 1999

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