New ArF Single-Layer Resist for 193-nm Lithography.

机译：新的ARF单层抗蚀剂为193纳米光刻。

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Sang-Jun Choi; Yool Kang; Dong-Won Jung; Chun-Geun Park; Joo-Tae Moon; Moon-Yong Lee;
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年度 1997
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