机译:化学放大抗蚀剂VI。来自2-氧氧己基 - 环己基甲基锍盐的光化学质子产生机制。
机译:三氟甲磺酸盐在酚醛清漆膜中的光化学质子生成机理
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机译:聚(苯乙烯-丙烯酸酯)基化学放大抗蚀剂的去质子化机理
机译:用于下一代光刻的新型化学放大抗蚀剂的开发和高级表征
机译:使用亲核有机催化剂的酰基和氨基甲酰基的光化学产生:应用和机制
机译:化学放大抗蚀剂。 VII。通过光化学异构化机制从三苯基锍盐产生质子。