首页> 外文OA文献 >Effects of Diluted Silica Slurry and Abrasives on the CMP Characteristics

【2h】

Effects of Diluted Silica Slurry and Abrasives on the CMP Characteristics

机译：稀释二氧化硅浆料和磨料对CMP特性的影响

代理获取

本网站仅为用户提供外文OA文献查询和代理获取服务，本网站没有原文。下单后我们将采用程序或人工为您竭诚获取高质量的原文，但由于OA文献来源多样且变更频繁，仍可能出现获取不到、文献不完整或与标题不符等情况，如果获取不到我们将提供退款服务。请知悉。

页面导航

著录项
引文网络
相似文献
相关主题

著录项

作者

展开▼
作者单位

展开▼
年度 2002
总页数
原文格式 PDF
正文语种
中图分类

相似文献

外文文献
中文文献
专利

1. Effect of Diluted Colloidal Silica Slurry Mixed with Ceria Abrasives on CMP Characteristic [J] . Lee Youngkyun, Seo Yong-Jin, Lee Hojun, International Journal Precision Engineering Manufacturing-Green Technology . 2016,第1期

机译：稀释的胶体二氧化硅浆料与二氧化铈磨料混合对CMP特性的影响
2. Composite Polymer Core-Silica Shell Abrasives Effect of Polishing Time and Slurry Solid Content on Oxide CMP [J] . S. Armini, C. M. Whelan, M. Moinpour Electrochemical and solid-state letters . 2007,第9期

机译：复合聚合物核-硅壳磨料的抛光时间和浆液固含量对氧化物CMP的影响
3. The effects of dilute polymer solution elasticity and viscosity on abrasive slurry jet micro-machining of glass [J] . K. Kowsari, D. F. James, M. Papini, Wear: an International Journal on the Science and Technology of Friction, Lubrication and Wear . 2014,第1a2期

机译：稀聚合物溶液的弹性和粘度对玻璃磨料浆射流微加工的影响
4. Investigating the Effects of Diluting Solutions and Trace Metal Contamination on Aggregation Characteristics of Silica-Based ILD CMP Slurries [C] . D. DeNardis, H. Choi, A. Kim, Symposium Proceedings vol.867; Symposium on Chemical-Mechanical Planarization-Integration, Technology and Reliability; 20050328-31; San Francisco,CA(US) . 2005

机译：研究稀释液和微量金属污染对二氧化硅基ILD CMP浆料聚集特性的影响
5. Abrasive Particle Trajectories and Material Removal Non-Uniformity during CMP and Filtration Characteristics of CMP Slurries - A Simulation and Experimental Study. [D] . Rastegar, Vahid. 2017

机译：CMP过程中的磨料颗粒轨迹和材料去除不均匀性以及CMP浆料的过滤特性-模拟和实验研究。
6. Acute exposure to silica nanoparticles aggravate airway inflammation: different effects according to surface characteristics [O] . Hye Jung Park, Jung-Ho Sohn, Yoon-Ju Kim, 2015

机译：急性接触二氧化硅纳米颗粒会加剧气道炎症：根据表面特征的不同作用
7. Evaluation of Al CMP Slurry based on Abrasives for Next Generation Metal Line Fabrication [O] . Nam-Goo Cha, Young-Jae Kang, In-Kwon Kim, 2006

机译：基于下一代金属线制造的研磨剂评价Al CMP浆料

Effects of Diluted Silica Slurry and Abrasives on the CMP Characteristics

著录项

引文网络

相似文献

相关主题

期刊订阅