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机译:通过物理表征了解超薄薄膜抗蚀剂和底层性能
Craig Higgins; Seth Kruger; Vimal Kamineni; Richard Matyi; Jacque Georger; Robert Brainard;
机译:通过物理表征了解超薄膜的抗蚀性和底层性能
机译:等离子生产的超薄纳米氧化铂薄膜:物理表征
机译:抗蚀剂的线边缘粗糙度(LER)传输特性:超薄抗蚀膜中的下层界面
机译:聚合物底层对物理气相沉积钛和氮化钛薄膜的影响。
机译:氧浓度对超薄射频磁控溅射沉积铟锡氧化物薄膜作为光伏器件上电极的性能的影响
机译:MgO底层缺失超薄薄膜的初始生长过程。
机译:成膜材料,光刻技术,成膜材料,光学成分形成材料,抗蚀剂组合物,抗蚀剂图案形成方法,抗蚀剂永久膜,放射线敏感性组合物,非晶膜制造方法,光刻法成膜下层膜形成成分,光刻层膜生产方法和电路图形形成方法
机译:膜形成材料,用于光刻的膜形成组合物,用于光学成分形成的材料,抗蚀剂组合物,抗蚀剂图案形成方法,用于抗蚀剂的永久膜,辐射敏感组合物,用于制造非晶膜,膜的材料,基底膜用于光刻的底层膜形成,用于光刻的底层膜的制造方法以及电路图案形成方法
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