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Analysis of Conditions for Effective Photochemical Subnanopolishing of Quartz Surface Using the Total Internal Reflection Effect

机译：用全内反射效应分析石英表面的有效光化学亚棱肺粒辐射的条件

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机译：使用表面剖面优化在总内反射条件下石英表面光 - 分配亚底抛光的原始电动分析
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机译：通过光化学气相沉积在涂有钯纳米粒子的石英基板上，然后进行全反射X射线荧光分析，超灵敏地测定水中的汞
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8. Study of Photochemistry at Semiconductor Surfaces Using Total Internal Reflection Techniques: Final Report for Period June 1, 1984-May 31, 1986 [R] . Spitler, M. T. 1987

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