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机译:通过填充酸铜镀铜沉积薄膜铜晶体的特征评估
Hideki HAGIWARA; Ryoichi KIMIZUKA; Hideo HONMA;
机译:使用乳酸基镀浴电沉积纳米晶铜沉积物
机译:低温通过电弧离子镀沉积的铜膜具有出色的抗磨性能
机译:在低温下通过电弧离子镀沉积的铜膜具有出色的抗磨性能
机译:通过在ECR等离子清洁的铜籽晶层上通过脉冲电镀沉积的铜膜上的退火进行再结晶
机译:研究了银(100)上沉积的铑,铜(100)上沉积的金和硅(100)上沉积的金的超薄膜的稳定性。
机译:单晶硅的碱性和铜基酸溶液的各向异性刻蚀特性的差异
机译:高纯度铜源的蒸汽沉积铜膜的电镀特性。
机译:铜化学气相沉积早期具有良好的附着力和沟槽填充特性的高质量铜膜的热致密化方法
机译:铜电镀方法和具有使用铜电镀方法沉积的铜镀膜的金属化树脂膜
机译:铜MOCVD早期的热致密化,用于沉积具有良好附着力和沟槽填充特性的高质量Cu膜
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