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A novel approach of chemical mechanical polishing for cadmium zinc telluride wafers

机译：镉锌碲化镉晶晶片化学机械抛光的新方法

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Zhenyu Zhang; Bo Wang; Ping Zhou; Renke Kang; Bi Zhang; Dongming Guo;
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年度 2016
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1. A novel approach of chemical mechanical polishing for cadmium zinc telluride wafers [J] . Zhenyu Zhang, Bo Wang, Ping Zhou, Scientific reports. . 2016,第4期

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3. A Wafer-Scale Particle Augmented Mixed Lubrication Modeling Approach for Chemical Mechanical Polishing [J] . Gagan Srivastava, C. Fred Higgs III Tribology & Lubricaion Technology . 2014,第4期

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4. Chemical mechanical polishing of soft-brittle cadmium zinc telluride wafers using a developed environment-friendly solution [C] . Zhenyu Zhang, Bo Wang, Yaxing Song International Symposium on Advances in Abrasive Technology . 2014

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5. Light scatter from defects on chemically-mechanically polished wafers. [D] . Ding, Ping. 2000

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