机译:CH4 / N-2介质阻挡放电等离子体沉积的非晶氢化碳氮化物(aH-CN chi)膜的结构表征:C-13,H-1固态NMR,FTIR和元素分析
机译:脉冲阴极电弧放电等离子体沉积的准非晶碳和氮化碳膜
机译:利用分流电弧放电制备含氮碳等离子体用于制备氮化碳膜
机译:电子回旋谐振(ECR)溅射法制备碳氮化物薄膜的制备与表征
机译:原子清洁的氮化镓(0001)和氮化铝(0001)薄膜的制备,表征以及通过碘汽相生长沉积厚的氮化镓薄膜。
机译:光敏抗菌石墨氮化碳(g-C3N4)膜的制备和表征
机译:通过中空阴极放电方法对金刚石碳和氮化碳膜的表征
机译:辉光放电分解法制备氢化非晶硼薄膜和薄膜太阳能电池的制备与表征。最终报告,1979年1月1日至1980年5月31日