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Anisotropy and Mechanistic Elucidation of Wet‐Chemical Gallium Nitride Etching at the Atomic Level

机译：原子水平湿化学镓蚀刻的各向异性和机械阐明

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Markus Tautz; Andreas Weimar; Christian Graßl; Martin Welzel; David Díaz Díaz;
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年度 2020
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