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机译:RF磁控溅射和电子束辐射制备MOS2纳米络
Bong Ho Kim; Jin Hee Han; Soon Hyeong Kwon; Young Joon Yoon;
机译:射频磁控溅射沉积法制备在可见光下工作的TiO_2薄膜光催化剂
机译:磁控溅射沉积法制备可见光下工作的TiO_2薄膜光催化剂
机译:射频磁控溅射沉积法制备能够在可见光下工作的TiO 2薄膜光催化剂
机译:射频磁控溅射和直流磁控溅射制备相变随机存取存储器Ge_2Sb_2Te_5薄膜
机译:使用RF平面磁控管溅射制备碲化镉和硫化镉薄膜。
机译:磁控溅射制备Cu3N / MoS2异质结及其结构和光学性能研究
机译:射频磁控溅射和电子束辐射合成溅射参数对二硫薄膜的影响
机译:电子束照射面积调整方法及调整系统,电子束照射区域校正方法及电子束照射装置
机译:电子束辐照区域调整方法和调整系统,电子束辐照区域校正方法和电子束辐照装置
机译:通过将两个彼此相邻排列的管形磁控管沉积在一个涂层室中,通过磁控管溅射法在混合室或合金层上涂覆基板,涂层室的外表面包括可溅射的靶材
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