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【2h】

Origin of Ferroelectric Phase in Undoped HfO 2 Films Deposited by Sputtering

机译：通过溅射沉积的未掺杂HFO 2薄膜的铁电相起源

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Terence Mittmann; Monica Materano; Patrick D. Lomenzo; Min Hyuk Park; Igor Stolichnov; Matteo Cavalieri; Chuanzhen Zhou; Ching‐Chang Chung; Jacob L. Jones; Thomas Szyjka; Martina Müller; Alfred Kersch; Thomas Mikolajick; Uwe Schroeder;
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年度 2019
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