机译:使用快速热处理技术对大型集成电路技术中硅结构表面的清洁
机译:无模板,无表面活性剂,简单的电化学途径即可快速合成具有“清洁”表面且直径受控的3D花状金微结构
机译:RF等离子清洁氧化物表面,可能会控制MOS结构中的污染
机译:VOCS排放控制涂层工艺的清洁技术。案例研究
机译:使用表面分析研究吸附的蛋白质结构如何随表面化学的受控变化而变化-以裸露的和苯乙烯磺酸钠接枝的金表面为例
机译:用于改善医院环境表面清洁和消毒的现代技术
机译:特刊。 LSI过程的表面控制技术。 CR2O3和NIF2金属表面钝化技术。
机译:煤炭表面控制先进的物理精煤清洁技术。最终报告,1988年9月19日 - 1992年8月31日。