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Special Issue. Surface Control Technology for LSI Processes. Cr2O3 and NiF2 Passivation Technology of Metal Surface.

机译:特刊。 LSI过程的表面控制技术。 CR2O3和NIF2金属表面钝化技术。

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著录项

  • 作者

    Tadahiro OHMI;

  • 作者单位
  • 年度 1994
  • 总页数
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种
  • 中图分类

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