机译:在较低的基板温度下使用CH4 + CO2 + H-2气体混合物通过DC等离子体CVD合成硼掺杂的金刚石薄膜,并形成n-Si / p金刚石异质结
机译:用双辉等离子表面合金化技术在CVD金刚石薄膜上合成的W金属涂层的温度依赖性
机译:直流PECVD合成的掺硅的类金刚石碳膜的低宏观场发射
机译:低温直流等离子体CVD金刚石和类金刚石碳薄膜
机译:类热等离子体放电对金刚石薄膜的微波辅助等离子体CVD
机译:新型金刚石薄膜合成策略:无氢的微波等离子体CVD法制备甲醇和氩气氛
机译:使用金刚石阴极的DC等离子体CVD试验金刚石合成的高增长速率。
机译:CVD-金刚石和类金刚石碳薄膜的sTm和aFm