С использованием методов термогравиметрии (ТГ), дифференциальной сканирующей калориметрии (ДСК) и рентгеноструктурного анализа (РСА) изучена кинетика отдельных стадий формирования наночастиц, полученных многостадийным методом химического осаждения. Описан механизм и определены кинетические параметры (эффективные константы скорости и энергии активации) процессов формирования ксерогеля, его последующей дегидратации и кристаллизации, а также роста оксидных наночастиц в температурном диапазоне 500–1000°C. Показано, что механизм роста наночастиц не одинаковый для всего температурного диапазона и согласно оцененным кинетическим параметрам можно выделить 2 диапазона (500–700 и 700–1000°C) с разной зависимостью константы скорости роста частиц от температуры. Обнаружено, что характерное для первого диапазона аномальное поведение константы скорости обусловлено процессами распада матрицы диоксида циркония при потере остаточной химически связанной воды.
展开▼