Исследование пространственной однородности, элементного и изотопного состава алмазных пленок, полученных методом CVD, комплексом ядерно-физических методов анализа

摘要

Разработана методика неразрушающего анализа поверхностных слоев в бинарных образцах в виде пленок из искусственных алмазов, осажденных на подложку из кремния методом CVD, на основе регистрации рентгеновского и γ-излучения возбуждаемого ускоренными протонами. Определены толщины и профили концентрации углерода в пленках из искусственных алмазов. Исследованы элементный состав алмазных пленок, распределение фтора по глубине в приповерхностных слоях. Изучены и выявлены различия в изотопном составе базового компонента покрытия — углерода в исследованных образцах. Сделаны выводы о возможности применения подобных аналитических методов для изучения физических процессов, связанных с изготовлением искусственных алмазов методом CVD и определение факторов, влияющих на характеристики подобных изделий.