首页> 外文OA文献 >Special Issue/Recent Trend and Future of Photoresists for Microlithography. Chemical Amplification Resist Trend.

【2h】

Special Issue/Recent Trend and Future of Photoresists for Microlithography. Chemical Amplification Resist Trend.

机译：特别问题/最近微光刻表的光致抗蚀剂的趋势和未来。化学放大抗蚀剂趋势。

代理获取

本网站仅为用户提供外文OA文献查询和代理获取服务，本网站没有原文。下单后我们将采用程序或人工为您竭诚获取高质量的原文，但由于OA文献来源多样且变更频繁，仍可能出现获取不到、文献不完整或与标题不符等情况，如果获取不到我们将提供退款服务。请知悉。

页面导航

著录项
引文网络
相似文献
相关主题

著录项

作者
Takumi UENO;
展开▼
作者单位

展开▼
年度 1993
总页数
原文格式 PDF
正文语种
中图分类

相似文献

外文文献
中文文献
专利

1. Phytochemical genomics - a new trend. (Special Issue: Physiology and metabolism.) [J] . Saito K. Current opinion in plant biology . 2013,第3期

机译：植物化学基因组学-一种新趋势。（特刊：生理学和新陈代谢。）
2. Our 'Material for Chemically Amplified Photoresist' Awarded 'Special Prize for National Invention Award of 2007' [J] . NEC technical journal . 2007,第4期

机译：我们的“化学放大光刻胶材料”荣获“ 2007年国家发明特别奖”
3. Resist process issues related to the glass transition changes in chemically amplified resist films [J] . I. Raptis, D. Niakoula, E. Tegou, Microelectronic Engineering . 2003,第Jun期

机译：与化学放大的抗蚀剂膜的玻璃化转变有关的抗蚀剂工艺问题
4. Non-ionic Photoacid Generators for Chemically Amplified Photoresists: Structure Effect on Resist Performance [C] . Hitoshi Yamato, Toshikage Asakura, Masaki Ohwa Advances in Resist Technology and Processing XXIII pt.1 . 2006

机译：用于化学增幅光刻胶的非离子型光致产酸剂：结构对光刻胶性能的影响
5. Current state of manufacturing technology in China and its future trend. [D] . Cheng, Min-Hsing. 2006

机译：中国制造技术的现状及其未来趋势。
6. A two-year radiological institute: five-year summary and future trend. [O] . S J Malsky, C G Amato, G Crowe 1970

机译：两年放射学研究所：五年总结和未来趋势。
7. Special Issue/Recent Trend and Future of Photoresists for Microlithography. Recent Trend and Future of Multilayer Resists for Microlithography. [O] . Hideo NAMATSU 1993

机译：特别问题/最近微光刻表的光致抗蚀剂的趋势和未来。多层抗蚀剂的近期趋势和未来对微光术进行抗蚀剂。
8. Novel Chemically Amplified Dry-Developing Imaging Materials for High Resolution Microlithography. [R] . Frechet, J. M., Fahey, J., Lee, S. M., 1992

机译：用于高分辨率微光刻的新型化学放大干显影成像材料。

Special Issue/Recent Trend and Future of Photoresists for Microlithography. Chemical Amplification Resist Trend.

著录项

引文网络

相似文献

相关主题

期刊订阅