首页> 外文OA文献 >Моделювання процесу дифузійного оксидоутворення на поверхні нанорозмірних металевих плівок
【2h】

Моделювання процесу дифузійного оксидоутворення на поверхні нанорозмірних металевих плівок

机译:纳米金属膜表面扩散氧化过程的建模

摘要

Методами Оже-електронної спектроскопії, Рентгенівського локального мікроаналізу, Резерфордівського оберненого розсіювання, рентгенофазового аналізу, растрової електронної мікроскопії досліджено початкові стадії низькотемпературної дифузії у нанорозмірних плівкових системах Cu(180 нм)/Mn(60 нм)/SiO₂ та Sn(60 нм)/Cu(180 нм)/Mn(60 нм)/SiO₂. Показано, що манган дифундує по межам зерен «верхніх» шарів, і реакція його окиснення на зовнішній поверхні створює додаткову рушійну силу масопереносу. Концентрація Mn на поверхні тришарової системи після відпалу у вакуумі 10⁻⁶ Па за температури 200°C впродовж 20 хв. є більшою, ніж за аналогічних умов відпалу двошарової системи, що пов’язується з розвитком фазових перетворень. Запропоновано теоретичну модель, яка дозволяє прогнозувати кінетику росту оксиду Mn₃O₄ на поверхні системи Cu/Mn, виконано кількісні розрахунки. Показано, що найбільша швидкість росту оксиду спостерігається в області стику межі зерна з поверхнею плівкової системи.
机译:通过俄歇电子能谱,X射线局部显微分析,卢瑟福逆散射,X射线相分析和扫描电子显微镜研究了纳米级Cu(180 nm)/ Mn(60 nm)/ Si(60 nm)/ Si(Nn)薄膜系统中低温扩散的初始阶段。 (180nm)/ Mn(60nm)/ SiO 2。结果表明,锰扩散到“上”层的晶粒之外,其在外表面的氧化反应产生了附加的质量传递驱动力。在真空10⁻⁶PA中于200°C的温度下退火20分钟后,三层系统表面上的Mn浓度与在两层系统的类似退火条件下相比,该值更大,这与相变的发展有关。提出了一个理论模型,该模型可以预测Mn₃O₄氧化物在Cu / Mn系统表面上的生长动力学,并进行定量计算。结果表明,在晶界与薄膜系统表面的接合处,氧化物的生长速率最大。

著录项

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号