首页> 外文OA文献 >Моделювання радiацiйних та релаксацiйних процесiв в iмплантованих iонами кисню плiвках залiзоiтрiєвого гранату
【2h】

Моделювання радiацiйних та релаксацiйних процесiв в iмплантованих iонами кисню плiвках залiзоiтрiєвого гранату

机译:氧离子注入石榴石膜中氧离子注入过程中辐射和弛豫过程的建模

摘要

The mechanisms of the formation of defects in superficial layers of epitaxial yttrium iron garnet films during the implantation by oxygen ions (E = 90 keV) are investigated by mathematical modeling methods. Secondary implantation processes and the evolution of the cascade collisions of target atoms up to a thermodynamical equilibrium state are studied.
机译:通过数学建模方法研究了氧离子(E = 90 keV)注入过程中外延钇铁石榴石薄膜表面层缺陷形成的机理。研究了二次注入过程以及靶原子级联碰撞直至热力学平衡状态的演化。

著录项

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号